百科: |
品 牌
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机 型
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波 长
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准分子激光气体
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ATL
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ATL ARF-1
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193 nm
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F2,Ar,Xe,Ne
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ATL KRF-1
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248 nm
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F2,Kr,Xe,Ne
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TUI
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CTFTS-ARFV 2.2
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193 nm
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F2,Ar,He,Ne
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CTFTS-KRFV 2.1
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248 nm
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F2,Kr,He,Ne
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CTFTS-KRFV 2.2
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248 nm
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F2,Kr,He,Xe,Ne
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CTMD-ARFV 2.0
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193 nm
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F2,Ar,He,O2,Ne
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CTMD-XECLV 2.1
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308 nm
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HCl,H2,Xe,Ne
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CTMN-ARFV 2.0
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193 nm
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F2,Ar,He,Ne
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CTMN-ARFV 2.1
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193 nm
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F2,Ar,He,Ne
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CTMN-KRFV 1.0
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248 nm
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F2,Kr,He,Ne
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CTMN-KRFV 2.0
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248 nm
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F2,Kr,He,Ne
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CTMN-XECLV 2.0
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308 nm
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HCl,H2,Xe,Ne
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CTMN-XECLV 5.0
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308 nm
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HCl,H2,Xe,Ne
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CTMN-XEFV 1.1
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450nm~520nm
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F2,Xe,He,Ne
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CTMN-XEFV 1.2
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450nm~520nm
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F2,Xe,He,Ne
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GAM Laser
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EX5 ArF
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193 nm
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F2,Ar,He,O2,Ne
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EX5 KrF
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248 nm
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F2,Kr,He,Ne
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EX5 XeCl
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308 nm
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HCl,H2,Xe,Ne
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EX10
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193 nm
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F2,Ar,He,Ne
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EX50
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193 nm
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F2,Ar,He,Ne
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EX100
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193 nm
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F2,Ar,He,Ne
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Photomedex
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XeCl
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308 nm
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HCl,Xe,Ne
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Photoscribe
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ArF
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193 nm
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F2,Ar,Ne
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KrF
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248 nm
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F2,Kr,Ne
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PotomacPhotonics
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ArF
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193 nm
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F2,Ar,Ne
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KrF
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248 nm
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F2,Kr,Ne
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Spectranetics
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XeCl
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308 nm
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HCl,H2,Xe,Ne
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此处所说的气体可以是纯气体,也可以是混合气体;可以是原子气体,也可以是分子气体;还可以是离子气体、金属蒸气等。多数采用高压放电方式泵浦。最常见的有氦-氖激光器、氩离子激光器、二氧化碳激光器、氦-镉激光器和铜蒸气激光器等。
氦-氖激光器是最早出现也是最为常见的气体激光器之一。它于1961年由在美国贝尔实验室从事研究工作的伊朗籍学者佳万(Javan)博士及其同事们发明,工作物质为氦、氖两种气体按一定比例的混合物。根据工作条件的不同,可以输出5种不同波长的激光,而最常用的则是波长为632.8纳米的红光。输出功率在0.5~100毫瓦之间,具有非常好的光束质量。氦-氖激光器是当前应用最为广泛的激光器之一,可用于外科医疗、激光美容、建筑测量、准直指示、照排印刷、激光陀螺等。不少中学的实验室也在用它做演示实验。
比氦-氖激光器晚3年由帕特尔(Patel)发明的二氧化碳激光器是一种能量转换效率较高和输出最强的气体激光器。目前准连续输出已有400千瓦的报导,微秒级脉冲的能量则达到10千焦,经适当聚焦,可以产生1013瓦/米2的功率密度。这些特性使二氧化碳激光器在众多领域得到广泛应用。工业上用于多种材料的加工,包括打孔、切割、焊接、退火、熔合、改性、涂覆等;医学上用于各种外科手术;军事上用于激光测距、激光雷达,乃至定向能武器。
与发明二氧化碳激光器同年,发明了几种惰性气体离子激光器,其中最常见的是氩离子激光器。它以离子态的氩为工作物质,大多数器件以连续方式工作,但也有少量脉冲运转。氩离子激光器可以有35条以上谱线,其中25条是波长在408.9~686.1纳米范围的可见光,10条以上是 275~363.8纳米范围的紫外辐射,并以488.0纳米和514.5纳米的两条谱线为最强,连续输出功率可达100瓦。氩离子激光器的主要应用领域包括眼疾治疗、血细胞计数、平版印刷及作为染料激光器的泵浦源。
1968年发明的氦-镉激光器以镉金属蒸气为发光物质,主要有两条连续谱线,即波长为325.0纳米的紫外辐射和441.6纳米的蓝光,典型输出功率分别为1~25毫瓦和1~100毫瓦。主要应用领域包括活字印刷、血细胞计数、集成电路芯片检验及激光诱导荧光实验等。
另一种常见的金属蒸气激光器是1966年发明的铜蒸气激光器。一般通过电子碰撞激励,两条主要的工作谱线是波长510.5纳米的绿光和 578.2纳米的黄光,典型脉冲宽度10~50纳秒,重复频率可达100千赫。当前水平一个脉冲的能量为1毫焦左右。这就是说,平均功率可达100瓦,而峰值功率则高达100千瓦。
铜蒸气激光器发明后过了15年才进入商品化阶段,其主要应用领域为染料激光器的泵浦源。此外,还可用于高速闪光照相、大屏幕投影电视及材料加工等。
氦氖激光器结构